セミ生産用

セミ生産に適したプラズマ装置です。
真空プラズマ　A4サイズ用：YHS-A4
A4サイズ用【YHS-A4】
YHS-Rの大型版。φ400のチャンバーで
大きなサンプルの処理が可能となります。
※ステージサイズはご要望に合わせてお作り致します。
真空プラズマ　ガス導入タイプ：YHS-Gφ400
ガス導入タイプ【YHS-Gφ400】
様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。
ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター
緻密な処理条件の設定が可能です。
真空プラズマ　3次元体処理：YHS-DOS
3次元体処理【YHS-DOS】
回転式チャンバーを搭載。ガス導入可能で
様々なサンプルの表裏を一括処理できます。
Oリングやコンデンサー、紛体などと様々な用途にお使い頂けます。
大気圧プラズマ　セミ生産用：S5000-BM
大気圧プラズマ【セミ生産用：S5000-BM】
スリットタイプのセミ生産向け大気圧プラズマ装置です。
パワー調整やガス流量調整機構が付き。緻密な処理が実現致します。
処理面積：約φ20mm 使用ガス：N2
大気圧プラズマ　スリットタイプ：SKIp-SLIt
誘電体バリア放電【スリットタイプ：SKIp-SLIt】
スリットタイプ幅広100mmの大気圧プラズマ装置。
パワー調整やガス流量調整機構が付き。緻密な処理が実現致します。
処理面積：約100mm×10mm程度 使用ガス：Ar
誘電体バリア放電　面状タイプ：SKIp-CBL300
  誘電体バリア放電【面状タイプ：SKIp-CBL300】
世界初!面型放電◇300mmの一括面処理大気圧プラズマ装置。
処理効果が高く、常圧下でサンプル全体を一括処理致します。
処理面積：約300×300mm程度 使用ガス：Ar