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真空プラズマ装置「CPE-Bシリーズ」

〈用途〉
■PTFE(テフロン)の親水化(要NH3)
■各種素材の撥水処理(要CF4)
■シリコン膜(基板)のエッチング処理(要CF4)
■ガラス膜(基板)の形成(要バブラー)
■細胞培養容器への処理 

〈特徴〉
■制御条件を全てマニュアル操作仕様
→プラズマ装置の扱いに慣れた研究者には打って付け!
■生産現場での製造工程に組み込み可能
→既存の設備と合わせての使用が可能となる為、コストや時間、製造効率もUP
■シンプルで導入コストを抑えた価格帯
→企業努力により低価格化した製品販売を実現

型式 CPE-100B
外形寸法 392mm(W)×500mm(D)×1050mm(H)(突起含まず。上蓋閉時)
ステージ寸法 直径100mm
処理圧力調整 手動排気バルブおよびガス導入量による手動調整
真空計 アナログ表示ピラニ真空計
ガス系統 1系統
電源 単相100V,15A(50Hz/60Hz)

 

型式 CPE-400B
外形寸法 850mm(W)×900mm(D)×1050mm(H)(突起含まず。上蓋閉時)
ステージ寸法 直径400mm
処理圧力調整 手動排気バルブおよびガス導入量による手動調整
真空計 アナログ表示ピラニ真空計
ガス系統 1系統
電源 単相100V,30A(50Hz/60Hz)

 

型式 CPE-1000B
外形寸法 1600mm(W)×1600mm(D)×1100mm(H)(突起含まず。上蓋閉時)
ステージ寸法 直径1000mm
処理圧力調整 手動排気バルブおよびガス導入量による手動調整
真空計 アナログ表示ピラニ真空計
ガス系統 1系統
電源 単相200V,30A(50Hz/60Hz)

※真空ポンプは別売です。また、別途、仕様変更も承っております。