製品一覧 > 真空プラズマ（表面改質）> 真空プラズマ装置「CPE-Bシリーズ」 真空プラズマ装置「CPE-Bシリーズ」 〈用途〉 ■PTFE(テフロン)の親水化(要NH3) ■各種素材の撥水処理(要CF4) ■シリコン膜(基板)のエッチング処理(要CF4) ■ガラス膜(基板)の形成(要バブラー) ■細胞培養容器への処理 〈特徴〉 ■制御条件を全てマニュアル操作仕様 →プラズマ装置の扱いに慣れた研究者には打って付け！ ■生産現場での製造工程に組み込み可能 →既存の設備と合わせての使用が可能となる為、コストや時間、製造効率もUP ■シンプルで導入コストを抑えた価格帯 →企業努力により低価格化した製品販売を実現 型式 CPE-100B 外形寸法 392mm(W)×500mm(D)×1050mm(H)(突起含まず。上蓋閉時) ステージ寸法 直径100mm 処理圧力調整 手動排気バルブおよびガス導入量による手動調整 真空計 アナログ表示ピラニ真空計 ガス系統 １系統 電源 単相100V,15A(50Hz/60Hz) 型式 CPE-400B 外形寸法 850mm(W)×900mm(D)×1050mm(H)(突起含まず。上蓋閉時) ステージ寸法 直径400mm 処理圧力調整 手動排気バルブおよびガス導入量による手動調整 真空計 アナログ表示ピラニ真空計 ガス系統 １系統 電源 単相100V,30A(50Hz/60Hz) 型式 CPE-1000B 外形寸法 1600mm(W)×1600mm(D)×1100mm(H)(突起含まず。上蓋閉時) ステージ寸法 直径1000mm 処理圧力調整 手動排気バルブおよびガス導入量による手動調整 真空計 アナログ表示ピラニ真空計 ガス系統 １系統 電源 単相200V,30A(50Hz/60Hz) ※真空ポンプは別売です。また、別途、仕様変更も承っております。
